花的零件:集中回避2

技能种类	回避强化
效果说明	HP低于30%时 回避率提升15%
能量使用量	60
结晶化	240
可装备	JS	JK	JD
	✔	✔	✔

分类	技能RAM
日文名	集中回避Ⅱ
英文名	Evasion Focus II
繁体中文	集中迴避2

获得方式

零件制作	以太结晶
人造异刃开发记录	600